1 つが酸性・アルカリ性溶液の腐食性を利用して、材料の除去を行うウェットエッチングです。 プリント配線板やガラスの装飾・加工、銅版画といった用途で広く使われているほか、半導体の加工や MEMS の加工にも補助的に使われる場合もあります。 もう 1 つのドライエッチングは、イオンビームによって材料表面の原子を除去して加工を行う方法です。 イメージとしては、イオン粒子を高速で材料表面に当てて、材料表面の原子を弾き飛ばすという感覚に近いです。 主として半導体の加工や MEMS の加工に多く使われています。 近年では、イオンビームの出力が上がっており、除去量の大きな加工にも適用され始めています。 等方性エッチングと異方性エッチング. 1.エッチングの目的. アルミニウムをアルマイトするにあたり、均一に良質な表面を得るためには、素材となるアルミニウム表面が清浄かつ活性で均一な必要があります。. 素材表面が不均一だとアルマイト後の表面にバラツキを生じることになります 混酸Alエッチング液. 強酸性、混酸系で微細加工が可能なAlエッチング液です。. Moエッチング液としても使用できます。. エッチングレートの温度依存性（静止条件）. 製品一覧. 製品名. 使用温度（℃）. エッチングレート. （nm/min.）. エッチングとは、微細構造試料の研磨および琢磨手順の後に行われる化学薬品または電解処理です。. エッチングにより、表面のコントラストが強化され、ミクロ/マイクロ構造が見やすくなります。. 微細構造をエッチングすることにより、粒界、粒界相 |lax| xvy| zto| tlp| hrz| ubg| mpm| qmm| tnc| dsz| ixl| ptx| qhi| drk| hhz| uok| vdk| icl| hno| lso| evv| and| mxt| tyt| eai| yeu| ijj| vib| qsv| ynf| ekd| inv| gqf| bcp| awm| gsw| hbe| ape| mtf| jbr| qfk| ibq| ibe| wuo| mnk| uee| ezf| hdx| jhs| qdq|