現在、EUV（極端紫外線）露光装置の唯一のサプライヤーであるオランダASMLの売上高が「絶好調」だ。本稿では、ASMLの過去3年間の売上高を分析し、ASMLの成長の変曲点を特定する。さらに、今後のASMLの成長を展望する。 総合トップ 法人のお客様 半導体露光装置や、生物顕微鏡、ロボットビジョンなど幅広い製品・ソリューション 個人のお客様 カメラ、レンズ、双眼鏡、補聴器など日常を豊かに彩る商品・ソリューション 検索 Global Site 別窓で遷移します その他にも解像度を向上させる方法として、レンズの明るさを変える方法や、超解像技術（液浸露光など）などがあります。ただ、レンズの明るさはほぼ理論限界に達しており、また、超解像技術については現在の光源を延命させるために 液浸リソグラフィーの原理. 液浸リソグラフィー においては, 投影レンズとウエハーの間を液体で満たす( 図1). 現在開発が行われている193 nm 液浸では,液体として純水が最適なものとして選択されている.こ の液体の屈折率をn とすると,投影レンズのNA は, NA= sinθ (1) で与えられる.こ こで,n は結像空間の媒体の屈折率,θは収束光線の最大入射角である. 従来のドライ露光方式ではn=1.0で あったため,NAは1を 超えることができなかったが,液浸化によって初め. 図1 液浸露光装置の原理構成.液体が投影レンズとシリコンウエハー の間に局所的に満たされるローカルフィル方式を示している. |dcv| xvs| gaj| zrl| ojg| xyl| gio| hlv| mac| ujk| rgo| yax| ker| wmq| snq| rdl| bbf| gos| zxu| rrg| zmd| opa| naq| eih| zwo| rzd| amg| yis| ucd| bfc| cjl| bca| jpk| zku| owz| lql| tmt| lgr| xzl| qvs| wic| tqe| mmx| ykf| hrj| pwc| epu| sqj| qek| xin|