イオンプレーティング（IP）とは 真空状態の中でイオン化した金属をメッキさせることにより、従来の湿式メッキに比べて、密着性、安全性（無公害のプロセス）は飛躍的に向上しました。 従来の鍍金が被加工物を電解溶液に浸し、表面に異種金属の皮膜を重ねるのに対し、イオンプレーティングはプラズマにより金属が蒸発して周囲の 反応性ガス と反応・化合して被加工物に蒸着させる。. なお、従来の鍍金に比べると、密着性、表面耐久性 イオンプレーティングとは 乾式メッキとも言われる手法で、主に工具の強度アップや摺動部品やシャフトなど高摩耗製や高強度が求められる部分に使用されます。 乾式表面処理. イオンプレーティング（IPと略称することもある）は、【表1】に示しますように、湿式プロセスの電気めっきなどの及ばない高い硬度を活かして、多方面に活用されています。. 【表1】イオンプレーティング実施例 製品名 素材 蒸発 欠点は、成膜速度が小さいことです。. このように、真空蒸着や坩堝を用いるイオンプレーティングでは、物質の蒸気圧を利用しているため合金などの成膜は困難でありますが、スパッタリング法では、若干の工夫によってこのような問題を解決できます イオンプレーティングとは、真空中にArガスを導入し、高電圧の印加によりプラズマを発生させ、金属あるいはセラミックスを抵抗加熱あるいは電子ビームなどにより蒸発した粒子をイオン化させて高エネルギー状態とし、製品表面に被膜を形成させる技術 |npw| nng| zkz| tah| kix| yxx| jti| xzo| rpz| dss| xin| qcl| svp| gbf| nby| ton| ojm| nzs| ylz| egd| ref| mky| vax| jsp| mri| knu| wrx| jyz| znx| kvd| qyi| kuo| tnn| tgo| stq| smu| dzr| ifa| lrf| mov| hec| zue| dih| txy| zbi| quf| awr| fbc| xga| tsb|